化学气相沉积法的原理_化学气相沉积法有哪些反应类型

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（1在中温或高温下，通过气态的初始化合物之间的气相化学反应而沉积固体。2可以在大气压常压或者低于大气压下低压进行沉积。3采用等离子和激光辅助技术可以显著地促进化学反应，使...化学气相沉积法原理 化学气相沉积法(Chemical Vapor Deposition,CVD)是一种常用的薄膜制备技术,它利用气相反应在基底表面沉积出所需的薄膜。该技术广泛应用于半导体、光电子...

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?▂? 化学气相沉积(CVD)被定义为由于气相化学反应而在基体表面上沉积固体薄膜,是一种薄膜工艺,其中沉积物质通常是原子、分子或两者的组合。一般来说,通过吸附气相前驱体的表面介导反应在...二、化学气相沉积法原理 CVD的原理过程是：将两种或两种以上的气态原材料导入到一个反应室内，气态原材料之间发生化学反应，形成一种新的材料，并沉积到基体表面上。先将反应物加热...